双盘双控金相磨抛机，在金相试样制备过程中，试样的磨光与抛光是二项非常重要的工序，通常是采用金相试样预磨机和金相试样抛光机二种设备来完成，为适应我国工业和科技发展的需要，结合用户的使用要求，我公司新设计制造成

具备单盘独立控制及盘的旋转方向可任意选择和磨抛盘可快速更换的功能。本机采用了*的微处理器控制系统，可使磨、抛盘均能获得50-1500转/分钟之间的转速且相互不干扰，可供两人同时使用并分别进行磨、抛工序的操作,从而使本机展现了更加广泛的应用性。本机具有转动平稳、安全可靠、结构紧凑和噪音低等特点，且带有水冷却装置，可以在研磨时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织；再配以ABS外壳和不锈钢标准件，在外观上更加美观大方，并提高了防腐、防锈性能且易清洁。本机适用于对金相试样进行粗磨、精磨、粗抛光至精抛光的制样，是企业、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备

主要参数：